前后思索了有10分钟，赵政对叶绍斌问道：“六哥，我想知道，国内的光刻机究竟发展到了哪种水平，当然我这不是刺探国内的机密情报，振夏系目前使用的光刻机是投影式步进900纳米制程级的，是欧美都没有对外发布的通过洛克菲勒家族搞来的；
且振夏系半年前就开始研发自己的光刻机了，而且是投影式步进400左右纳米制程级的，目前已经取得了突破性的进展；
我猜测欧美目前隐藏的光刻机顶尖成熟技术，也就差不多是这个级别，差别是，振夏系还处于研发阶段，而欧美即便不能实现量产，也能够在实验室小批量生产芯片了，至于欧美处于研发阶段的光刻机可能是属于扫描式200纳米制程级别的了；
振夏系之所以能够取得突破性进展，一方面是因为振夏系购买了东德卡尔蔡司的镜片技术，且使用了很多德裔工程师和技术工人；
另一方面振夏科技研究院在激光电源方面本身就取得了突破性的研发技术，所以两方面的技术叠加，加上振夏系本身就擅长于整合技术，所以才有了突破性进展。”
秦浩然：“厉害，确实厉害。你的想法是，让我在国内也大力研发光刻机？还是说你想让我在国内布局整个芯片制造行业？
芯片制造芯片制造可是包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入，这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等。光研发出先进的光刻机还是不够的。”
赵政：“这些我知道，其实你还忽略了核心零部件的生产，很多核心零部件不是说你想生产就能够成产出来的，还需要很多的特殊材料；
光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机，光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小，但后道光刻机的研发也是很关键的；
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